Samsung Electronics представил модуль DDR5 объёмом 512 ГБ на базе технологии High-K Metal Gate (HKMG). Производительность DDR5 более чем в 2 раза превышает возможности DDR4, что обеспечивает пропускную способность до 7200 мегабит в секунду (Мбит/с). Новый модуль подходит для выполнения самых требовательных к вычислениям и пропускной способности задач, относящихся к суперкомпьютерам, искусственному интеллекту, машинному обучению и анализу данных.
«Применяя техпроцесс HKMG в производстве DRAM, мы можем предложить нашим клиентам высокопроизводительную и энергоэффективную память для компьютеров, выполняющих задачи для медицинских исследований, финансовых рынков, автономного вождения, “умных” городов и других сфер», — прокомментировал Янг-Су Сон (Young-Soo Sohn), вице-президент группы планирования и поддержки памяти DRAM в Samsung Electronics.
«Поскольку объём данных, которые необходимо перемещать, хранить и обрабатывать, растёт по экспоненте, переход на DDR5 наступает в критический момент для облачных ЦОД, сетей и периферийных развёртываний. Инженеры Intel в тесном сотрудничестве с лидерами в сфере памяти, такими как Samsung, создали быструю, энергоэффективную память DDR5 с оптимизированной производительностью, совместимую с нашими будущими процессорами Intel Xeon Scalable под кодовым названием Sapphire Rapids», — отметила Кэролин Дюран, вице-президент и генеральный директор по технологиям памяти и ввода-вывода в компании Intel.
В DDR5 от Samsung будет использоваться передовая технология HKMG, которая традиционно применяется в логических полупроводниках и была впервые использована в памяти Samsung GDDR6 в 2018 году. При сокращении размеров структур DRAM изоляционный слой становится тоньше, что приводит к большей утечке тока. Благодаря замене изолятора на материал HKMG, DDR5 от Samsung сокращает утечки и способна обеспечить более высокую производительность. Новая память также будет потреблять примерно на 13% меньше энергии, что делает её особенно подходящей для центров обработки данных, где энергоэффективность имеет большое значение.
Используя технологию вертикальных межсоединений (through-silicon via, TSV), память Samsung DDR5 объединяет 8 слоёв микросхем DRAM ёмкостью 16Гб, обеспечивая максимальную ёмкость 512Гб. Технология TSV впервые была задействована в DRAM в 2014 году, когда Samsung представил серверные модули ёмкостью до 256Гб.
Для получения дополнительной информации посетите сайты https://samsung.com/ru/memory-storage/ или https://samsung.com/ru/.
Samsung Develops Industry’s First HKMG-Based DDR5 Memory; Ideal for Bandwidth-Intensive Advanced Computing Applications
Samsung Electronics, the world leader in advanced memory technology, today announced that it has expanded its DDR5 DRAM memory portfolio with the industry’s first 512GB DDR5 module based on High-K Metal Gate (HKMG) process technology. Delivering more than twice the performance of DDR4 at up to 7,200 megabits per second (Mbps), the new DDR5 will be capable of orchestrating the most extreme compute-hungry, high-bandwidth workloads in supercomputing, artificial intelligence (AI) and machine learning (ML), as well as data analytics applications.
“Samsung is the only semiconductor company with logic and memory capabilities and the expertise to incorporate HKMG cutting-edge logic technology into memory product development,” said Young-Soo Sohn, Vice President of the DRAM Memory Planning/Enabling Group at Samsung Electronics. “By bringing this type of process innovation to DRAM manufacturing, we are able to offer our customers high-performance, yet energy-efficient memory solutions to power the computers needed for medical research, financial markets, autonomous driving, smart cities and beyond.”
“As the amount of data to be moved, stored and processed increases exponentially, the transition to DDR5 comes at a critical inflection point for cloud datacenters, networks and edge deployments,” said Carolyn Duran, Vice President and GM of Memory and IO Technology at Intel. “Intel’s engineering teams closely partner with memory leaders like Samsung to deliver fast, power-efficient DDR5 memory that is performance-optimized and compatible with our upcoming Intel Xeon Scalable processors, code-named Sapphire Rapids.”
Samsung’s DDR5 will utilize highly advanced HKMG technology that has been traditionally used in logic semiconductors. With continued scaling down of DRAM structures, the insulation layer has thinned, leading to a higher leakage current. By replacing the insulator with HKMG material, Samsung’s DDR5 will be able to reduce the leakage and reach new heights in performance. This new memory will also use approximately 13% less power, making it especially suitable for datacenters where energy efficiency is becoming increasingly critical.
The HKMG process was adopted in Samsung’s GDDR6 memory in 2018 for the first time in the industry. By expanding its use in DDR5, Samsung is further solidifying its leadership in next-generation DRAM technology.
Leveraging through-silicon via (TSV) technology, Samsung’s DDR5 stacks eight layers of 16Gb DRAM chips to offer the largest capacity of 512GB. TSV was first utilized in DRAM in 2014 when Samsung introduced server modules with capacities up to 256GB.
Samsung is currently sampling different variations of its DDR5 memory product family to customers for verification and, ultimately, certification with their leading-edge products to accelerate AI/ML, exascale computing, analytics, networking, and other data-intensive workloads.
