пятница, 21 февраля 2020 г.

Samsung запустил производство 7-нм чипов по новой технологии



Samsung Electronics начал производство чипов на основе экстремальной ультрафиолетовой литографии (Extreme Ultraviolet Lithography, EUV). Для этого техногигант запустил новую производственную линию V1 в Южной Корее.
На предприятии в городе Хвасон теперь изготавливаются 6- и 7-нм микросхемы, а в будущем планируется производство 3-нм продуктов. Samsung установил на заводе не менее 10 EUV-сканеров, потратив на это более 1 миллиарда долларов США. Общие инвестиции в проект не раскрываются, но специалисты считают эти вложения беспрецедентными.
Южнокорейский гигант намерен увеличить производство на линии V1, а также на линии S3, в результате чего объём выпуска чипов с технологическими нормами от 7нм и ниже в 2020 году должны утроиться по сравнению с 2019-м. Корпорация освоила 7-нм техпроцесс на коммерческом уровне в 2017-м, а 5-нм - в апреле 2019-го, говорится в сообщении Korea IT Times.
В ближайшие 10 лет Samsung намерен потратить около 116 миллиардов долларов на контрактное производство полупроводниковой продукции. $64 миллиарда пойдут на исследования и разработки (R&D), а оставшиеся $69 миллиардов будут инвестированы в расширение производственных мощностей, что позволит создать 15.000 новых рабочих мест.
В настоящее время 7 заводов Samsung по выпуску полупроводников действуют на территории Южной Кореи и США. Производство наиболее сложной продукции сконцентрировано в южнокорейских городах Пхёнтак и Хвасон.  

Samsung Electronics Begins Mass Production at New EUV Manufacturing Line

Samsung’s EUV capacity under 7nm will triple by end of 2020 to start shipping first 7/6nm-based mobile chips from V1 line in 1Q

Samsung Electronics today announced that its new cutting-edge semiconductor fabrication line in Hwaseong, Korea, has begun mass production. 
The facility, V1, is Samsung’s first semiconductor production line dedicated to the extreme ultraviolet (EUV) lithography technology and produces chips using process node of 7 nanometer (nm) and below. The V1 line broke ground in February 2018, and began test wafer production in the second half of 2019. Its first products will be delivered to customers in the first quarter. 
"Along with technology leadership and design infrastructure, manufacturing excellence is one of the most important elements of the foundry business,” said Dr. ES Jung, President and Head of Foundry Business at Samsung Electronics. "As we ramp up production, the V1 line will enhance our ability to respond to market demand and expand opportunities to support our customers." 
The V1 line is currently producing state-of-the-art mobile chips with 7- and 6-nm process technology and will continue to adopt finer circuitry up to the 3 nm process node. 
By the end of 2020, the cumulative total investment in the V1 line will reach USD 6 billion in accordance with Samsung’s plan and the total capacity from 7nm and below process node is expected to triple from that of 2019. Together with the S3 line, the V1 line is expected to play a pivotal role in responding to fast-growing global market demand for single-digit node foundry technologies. 
As semiconductor geometries grow smaller, the adoption of EUV lithography technology has become increasingly important, as it enables scaling down of complex patterns on wafers and provides an optimal choice for next-generation applications such as 5G, AI, and Automotive.   
With the V1 line in operation, Samsung now has a total of six foundry production lines in South Korea and the United States, including five 12-inch lines and one 8-inch line.

Комментариев нет:

Отправить комментарий